三菱ガス化学、米国アリゾナ州で半導体洗浄薬品の増産
三菱ガス化学は10日、半導体の製造工程で使用する超純過酸化水素（以下：超純過水）や超純アンモニア水（以下：超純安水）の製造販売を行う連結子会社 MGC Pure Chemicals America, Inc.（米国アリゾナ州、以下：MPCA）のテキサス工場を増設すると発表した。
同社グループは、国内外に超純過水と超純安水製造設備を構え、世界最高レベルの品質と分析・品質保証体制で、世界トップシェアを誇る。加えて、半導体製造工程で使用する機能性薬液の供給も手掛け、いずれも高い支持を受けている。
超純過水・超純安水は、主に半導体のウエハーやデバイスの製造工程で、洗浄剤・エッチング剤・研磨剤として使用されるが、半導体の微細化に伴い、より高品質な薬液要求が高まっている。また、5G、IoT、クラウド、AI、車載等での用途拡大により、半導体市場は長期的な成長が予想されている。
こうした背景から、北米で最大供給能力を持つMPCAに対し、最先端の工場建設を進める大手顧客向けの需要が拡大しており、供給リスクの軽減と高品質な製品の安定供給が求められている。
MPCAは、今回のテキサス工場の増強に先行し、オレゴン工場の増強を進めている。顧客や市場の動向に応じて北米における生産能力を増強することで、半導体産業のさらなる成長に貢献するとともに、半導体製造に不可欠な電子工業用薬液におけるリーディングカンパニーとして、さらなる発展を目指す。
設備投資概要
【MPCAテキサス工場】
所在地：米国テキサス州キリーン（MPCAテキサス工場）
生産能力（増設分）：超純過水 35,000トン/年、超純安水 5,000トン/年
生産開始予定：2025年6月
【MPCAオレゴン工場】
所在地：米国オレゴン州フォレストグローブ
生産能力（増設分）：超純過水 35,000トン/年
生産開始予定：2024年9月
