住友電気工業、横浜製作所に研究開発棟建設
住友電気工業は8日、横浜製作所（神奈川県横浜市）に研究開発棟を建設すると発表した。
近年、生成AIとDXの進展によりデータセンタ市場が活発化しており、高速かつ低消費電力の製品開発が急務とされているが、高速化と省電力化はトレードオフの関係にあるため、両立させることが課題となっている。
こうした課題に対応するため、光コネクタや光接続部品などの情報通信分野製品の技術開発を加速させる。新研究棟では、最先端の設備を導入し、主に光コネクタなどの接続部品の高性能化に関する研究や小型化設計、コスト低減の技術開発に取り組む。
新研究棟概要
名称：未定
所在地：横浜市栄区田谷町1（横浜製作所内）
総延床面積：5,568㎡（2棟構成：平屋＋3階建て）
着工：2024年12月
竣工予定：2026年3月末
稼働予定：2026年上期
