JX金属、次世代半導体向け材料の増産
JX金属は18日、需要が拡大する次世代半導体向けCVD・ALD材料の本格供給に向け、東邦チタニウム（株）茅ヶ崎工場の敷地内とJX金属 日立事業所白銀地区への生産設備と開発設備を増強すると発表した。
生成AIの進化により、データセンターやAI搭載IoTデバイスの市場拡大が続いている。こうした機器に利用される高性能半導体には、高集積化を実現するための微細化や多層化が求められ、これに伴いCVD･ALDによる薄膜形成ニーズが高まっている。同社は2024年2月にCVD･ALD材料事業推進室を新設。新規高純度CVD・ALD材料の量産ラインを構築し、出荷したサンプル品は顧客からの良好な評価を獲得しているという。
今回、同材料の本格採用による急速な需要拡大が見込まれることから、生産能力の増強を決定した。茅ケ崎工場は24年度下期、日立事業所は25年度上期を目途に生産設備を導入し稼働を開始する計画。
あわせて同事業の今後の展開に向けた新規プロセス開発や新規材料開発に向けた設備強化を行い、拡大する顧客需要に対応していく。
設備投資概要
所在地：神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎3丁目3−5（東邦チタニウム 茅ヶ崎工場）
：茨城県日立市白銀町（JX金属 日立事業所白銀地区）
事業内容：次世代半導体向けCVD・ALD材料の製造
設備：生産設備と開発設備
稼働開始予定：2024年度下期（茅ケ崎工場）
：2025年度上期（日立事業所）
